30나노 이하급 D램 등 기술 유출 가능성 우려
  • 사진=연합뉴스 제공
[데일리한국 김언한 기자] 산업통상자원부가 17일 삼성전자 반도체 공장의 작업환경측정결과보고서에 국가핵심기술에 해당하는 내용이 포함된 것으로 결론내렸다.

제3자에게 공개할 경우 기술유출을 초래할 수 있다는 삼성전자의 주장에 힘이 실릴 것으로 예상된다.

산업부는 이날 오후 산업기술보호위원회 반도체전문위원회를 열어 삼성전자 화성, 평택, 기흥, 온양 반도체 공장 작업환경보고서에 국가핵심기술이 포함됐는지 심의했다.

산업부는 "2009~2017년도 화성, 평택, 기흥, 온양 사업장 작업환경측정보고서 일부 내용이 국가핵심기술인 30나노 이하급 D램과 낸드플래시, AP 공정 및 조립기술을 포함한 것으로 판정했다"고 밝혔다.

산업부는 공정 이름과 배치(layout), 화학물질 상품명과 월 사용량을 통해 현재 반도체 분야에서 국가핵심기술로 지정된 7개 기술 중 6개를 유추하는 게 가능하다고 판단했다.

예를 들어 화성공장의 2010~2017년 보고서에는 30나노 이하급 D램에 해당하는 공정기술, 온양공장의 2011~2017년 보고서에는 30나노 이하급 D램에 해당하는 조립기술이 포함됐다. 화학물질 정보를 후발업체가 획득할 경우 정보를 획득할 수 있다는 설명이다.

다만 “삼성이 애초 신청한 2007~2008년 보고서는 30나노 이상 기술과 관련돼 국가핵심기술에 해당하지 않는다”고 봤다.

삼성전자는 이번 판정 결과를 법원에 제출할 전망이다.

한편, 이날 중앙행정심판위원회는 삼성 측의 작업환경보고서 정보공개 집행정지 신청을 받아들였다.

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입력시간 : 2018/04/17 22:41:16 수정시간 : 2018/04/17 22:41:16
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