10일 삼성전자 등에 따르면, 총 30조원 이상이 투입될 평택캠퍼스 반도체 제3 생산라인(P3)의 건물 착공이 이르면 9월부터 시작된다.
최종 건축허가 면적은 70만㎡ 규모로 알려졌다. 통상 2개 층으로 건설되는 반도체 생산 라인과 5층 이상의 사무실 등 부속 동을 합친 것이다.
P3 라인은 삼성전자가 평택캠퍼스에 짓기로 한 총 6개의 라인 중에서 규모가 가장 크다. 통상 반도체 공장 건설과 설비 반입, 생산까지 3~4년가량 소요되는 것을 고려하면 P3 라인의 양산 가능 시기는 오는 2023년 하반기가 될 전망이다.
P3 라인의 투자금액은 평택캠퍼스 단일 라인 가운데 최대 규모가 될 것으로 예측된다. P3보다 규모가 작은 P2 라인의 투자금액이 30조원에 이르는 점을 고려하면 30조원을 훌쩍 뛰어넘을 것으로 보인다.
김언한 기자
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